真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜，特别是真空离子蒸腾、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射堆积等。磁控溅射靶在真空镀膜过程中，由于发射时温度比较高，会使射出变形，所以它有一个水套来冷却射。但要确保套管内水温不受环境和温度和天然温度的影响，常常要凭借冷水机组完成真空镀膜机组的冷却冷却。

　　负压条件下成膜有许多长处：可以大大削减蒸腾的资料原子、分子在飞向基底的过程中与分子的磕碰、气体中活性分子与蒸腾源资料之间的化学反应(例如氧化等)，以及下降成膜过程中气体分子进入基底中成为杂质的数量，选用金属真空镀膜，然后供给膜层的致密度、纯度、堆积速率和与基底的粘接才能。一般真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，关于间隔基片较远、成膜质量开展要求高的蒸腾源要求下降压力。

　　在溅射膜上激光溅射镀膜，成分均匀，易于坚持，在原子尺度上厚度均匀度相对较差(由于是脉冲溅射)，晶向(外边缘)成长的操控也比较一般。真空镀膜机操作规程具体操作时，请参照本阐明书及本设备上仪表盘的指针显现和每个旋钮下的标示阐明。承认真空镀膜机的各个操作操控开关是否处于“关断”方位。就我国现有的涂装出产线而言，首要存在以下问题：规划水平不高，我国在涂装设备开发方面投入不大，先进老练的涂装设备很少占领市场，即使是国内自己制作的涂装出产线，出产线上的一些关键设备也是引入多了。它在国内的一些根底部件和操控部件的质量并没有过关，经不起长时间的检测。